PolovodičeEUV
EUV litografie
Extreme Ultraviolet Lithography
Pokročilá litografická technologie používající extrémní ultrafialové záření pro výrobu nejmodernějších čipů.
Jednoduše řečeno
EUV umožňuje na wafer vytvářet velmi jemné struktury potřebné pro pokročilé výrobní procesy.
Praktický význam
EUV je klíčová pro leading-edge výrobu a představuje významnou technologickou i kapitálovou bariéru vstupu.
Příklad
Foundry používá EUV při vybraných kritických vrstvách pokročilého procesu, aby snížila počet vícenásobných expozic.
Podrobněji
EUV pracuje s vlnovou délkou přibližně 13,5 nm a vyžaduje extrémně komplexní optiku, vakuum, zdroj záření a přesné řízení procesu.
Na co si dát pozor
EUV sama o sobě neurčuje kvalitu procesu; důležité jsou i další kroky výroby a celková výtěžnost.